반도체와 함께! Semiconductor

3.4 BJT 구조와 제조공정 MOSFET의 아이디어는 1930년대에 나왔지만 반도체 표면을 깨끗하게 처 리하는 기술이 없었기 때문에 표면에서 동작하는 MOSFET을 제작할 수가 없었 다. 이러한 이유로 BJT가 MOSFET보다 세상에 먼저 나왔는데, 간단하게 BJT의 구조와 공정을 살펴보자. BJT는 소자의 동작에 아주 중요한 베이스가 기판 내부에 있기 때문에 그림 3.3, 3.4과 같이 구조와 공정이 복잡하다. 먼저 P형 실리콘 기판 위에 산화막을 형성하고(그림 3.3(a)), 1번 buried-layer 마스크를 사용하여 buried layer 혹은 subcollector를 정의한다. 산화막은 선택적 확산을 위한 장벽(barrier)으로 사용되는 아주 중요한 물질로서 마스크 작업 전에 꼭 길러 져야..